Micro and Nano Fabrication

e-beam lithography

Release time: Wed, Dec 27 2023 15:28

仪器品牌:扫描电镜Thermo Fisher Scientific+曝光系统美国JC Nabity Lithography Systems公司

仪器型号:Apreo 2S HiVac+NPGS V9.2

功能:扫描电镜成像、电子束光刻

主要技术指标:一)SEM指标:二次电子分辨率:15kV下分辨率0.5nm;1kV减速模式下分辨率0.8nm;500V减速模式下分辨率0.8nm;200V减速模式下分辨率1.2nm。(二)曝光系统指标:1)电子束驻留时间最小增量为0.5纳秒。2)同步扫描频率不低于5 MHz。3)具备图形设计软件包,具有曝光图案设计、读/写转换及图形导入等功能;4)单写场尺寸:10um-1000um